ものづくり研究開発センター 加工設備

プラズマＣＶＤ装置

主な用途 酸化シリコン膜の形成

設備名	プラズマＣＶＤ装置
メーカー名	サムコインターナショナル(株)
型式
導入年	H12年度
仕様	膜の種類：ＳｉＯ２ 薄膜材料：ＴＥＯＳ、ＮＨ３
設置場所	ものづくり研究開発センター