ものづくり研究開発センター 加工設備

フォトマスク作製システム


フォトマスク作製システム【133317130030.jpg】
機器概要

標準フォトレジストやエマルジョンの露光をレーザービームにより行い、主に半導体製造プロセスで用いるフォトマスクを作製する
主な用途

センサの回路パターン等を形成したフォトマスクを作製

設備名 フォトマスク作製システム
メーカー名 (株)日本レーザー
型式 DWL66
導入年 H13年度
仕様 描画方式:ラスタースキャン   
最小線幅:0.8μm  
使用可能データファイル:DXF,Gerber,GDS2
設置場所 ものづくり研究開発センター