TITC
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主要備品
ものづくり研究開発センター 加工設備
フォトマスク作製システム
機器概要
標準フォトレジストやエマルジョンの露光をレーザービームにより行い、主に半導体製造プロセスで用いるフォトマスクを作製する
主な用途
センサの回路パターン等を形成したフォトマスクを作製
設備名
フォトマスク作製システム
メーカー名
(株)日本レーザー
型式
DWL66
導入年
H13年度
仕様
描画方式:ラスタースキャン
最小線幅:0.8μm
使用可能データファイル:DXF,Gerber,GDS2
設置場所
ものづくり研究開発センター
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