ものづくり研究開発センター 加工設備

フォトマスク作製システム

機器概要 標準フォトレジストやエマルジョンの露光をレーザービームにより行い、主に半導体製造プロセスで用いるフォトマスクを作製する 主な用途 センサの回路パターン等を形成したフォトマスクを作製

設備名	フォトマスク作製システム
メーカー名	（株）日本レーザー
型式	DWL66
導入年	H13年度
仕様	描画方式：ラスタースキャン　　　 最小線幅：０．８μｍ　　 使用可能データファイル：ＤＸＦ，Ｇｅｒｂｅｒ，ＧＤＳ２
設置場所	ものづくり研究開発センター