機械電子研究所 加工設備

酸化雰囲気ホットプレス

主な用途 高温加圧による酸化物焼成体の製造

設備名	酸化雰囲気ホットプレス
メーカー名	東京真空(株)
型式
導入年	H12年度
仕様	最高温度：１，３００℃ 加熱炉寸法：φ１８０ｍｍ×１００ｍｍ
設置場所	機械電子研究所