TITC
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主要備品
機械電子研究所 加工設備
真空ホットプレス
主な用途
高温加圧による焼成体の製造
設備名
真空ホットプレス
メーカー名
東京真空(株)
型式
導入年
S58年度
仕様
最高温度:1,300℃
真空度:1Pa、加熱炉寸法:φ100mm×100mm
加圧力:5トン(全圧)
設置場所
機械電子研究所
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