TITC
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主要備品
機械電子研究所 加工設備
高真空蒸着装置
主な用途
薄膜作成
設備名
高真空蒸着装置
メーカー名
型式
導入年
H11年度
仕様
基板ホルダ:□50mm
真空度:10−6Torr
抵抗加熱・電子ビーム方式
設置場所
機械電子研究所
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