機械電子研究所 加工設備

高真空蒸着装置



主な用途

薄膜作成

設備名 高真空蒸着装置
メーカー名
型式
導入年 H11年度
仕様 基板ホルダ:□50mm
真空度:10−6Torr
抵抗加熱・電子ビーム方式
設置場所 機械電子研究所