ものづくり研究開発センター 加工設備

多層膜真空蒸着装置



主な用途

高真空下においての単層膜または多層膜の作成

設備名 多層膜真空蒸着装置
メーカー名 日本真空
型式 EX−400−D06−E
導入年 H01年度
仕様 到達真空度:10−7Torr
基盤加熱温度:200℃以上
蒸着方式:4連式電子銃
設置場所 ものづくり研究開発センター