ものづくり研究開発センター　加工設備

両面マスクアライナー

主な用途 シリコン基板、薄膜、金属板等へのエッチング用露光パターンの形成、微細パターンマスクの作製

設備名	両面マスクアライナー
メーカー名	ユニオン光学(株)
型式
導入年	H10年度
仕様	フォトマスクサイズ：５インチ□、４インチ□、２．５インチ□ アライメント機能：±５μｍ 解像度：３μｍ
設置場所	ものづくり研究開発センター