ものづくり研究開発センター 加工設備

両面マスクアライナー


両面マスクアライナー【133321580223.jpg】
主な用途

シリコン基板、薄膜、金属板等へのエッチング用露光パターンの形成、微細パターンマスクの作製

設備名 両面マスクアライナー
メーカー名 ユニオン光学(株)
型式
導入年 H10年度
仕様 フォトマスクサイズ:5インチ□、4インチ□、2.5インチ□
アライメント機能:±5μm
解像度:3μm
設置場所 ものづくり研究開発センター