TITC
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主要備品
ものづくり研究開発センター 加工設備
両面マスクアライナー
主な用途
シリコン基板、薄膜、金属板等へのエッチング用露光パターンの形成、微細パターンマスクの作製
設備名
両面マスクアライナー
メーカー名
ユニオン光学(株)
型式
導入年
H10年度
仕様
フォトマスクサイズ:5インチ□、4インチ□、2.5インチ□
アライメント機能:±5μm
解像度:3μm
設置場所
ものづくり研究開発センター
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