ものづくり研究開発センター 測定計測設備

光干渉式膜厚測定装置
（ナノスペック段差計）

機器概要 光干渉方式により、基板上の薄膜等の膜厚、反射率等を評価する。 主な用途 フォトレジストや酸化膜等の膜厚測定。

設備名	光干渉式膜厚測定装置 （ナノスペック段差計）
メーカー名	ﾅﾉﾒﾄﾘｸｽ･ｼﾞｬﾊﾟﾝ(株)
型式	Nanospec
導入年	H11年度
仕様	膜厚測定範囲：１００Å〜６０μｍ　 測定波長範囲：４００〜９００ｎｍ
設置場所	ものづくり研究開発センター