ものづくり研究開発センター 加工設備

真空蒸着装置


真空蒸着装置【133321580238.jpg】
機器概要

真空中で電子ビームによって材料を加熱し、薄膜を作製します
主な用途

デバイス作製プロセスにおける金属膜の作製、光学多層膜や機能性薄膜の作製

設備名 真空蒸着装置
メーカー名 日本真空技術
型式 EX-400SP
導入年 H11年度
仕様 到達真空度:1×10−4Pa
蒸着源:電子ビーム加熱・最高出力5KW
蒸着源4個
基板加熱:最高300℃
設置場所 ものづくり研究開発センター