TITC
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主要備品
ものづくり研究開発センター 加工設備
マグネトロンスパッタ装置
機器概要
誘導結合RFプラズマ支援マグネトロンスパッタにより、ターゲット基板間距離を離し、高品位な薄膜を作製
主な用途
プラズマが基板に照射されない状態で精密な薄膜を作製
設備名
マグネトロンスパッタ装置
メーカー名
日本真空技術
型式
MPS-4000HC
導入年
H11年度
仕様
スパッタ方式:誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ
カソード−基板間距離:150〜200mm
基板加熱:最高500℃
設置場所
ものづくり研究開発センター
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