ものづくり研究開発センター 加工設備

マグネトロンスパッタ装置


マグネトロンスパッタ装置【133321580239.jpg】
機器概要

誘導結合RFプラズマ支援マグネトロンスパッタにより、ターゲット基板間距離を離し、高品位な薄膜を作製
主な用途

プラズマが基板に照射されない状態で精密な薄膜を作製

設備名 マグネトロンスパッタ装置
メーカー名 日本真空技術
型式 MPS-4000HC
導入年 H11年度
仕様 スパッタ方式:誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ
カソード−基板間距離:150〜200mm
基板加熱:最高500℃
設置場所 ものづくり研究開発センター