ものづくり研究開発センター 加工設備

マグネトロンスパッタ装置

機器概要 誘導結合ＲＦプラズマ支援マグネトロンスパッタにより、ターゲット基板間距離を離し、高品位な薄膜を作製 主な用途 プラズマが基板に照射されない状態で精密な薄膜を作製

設備名	マグネトロンスパッタ装置
メーカー名	日本真空技術
型式	MPS-4000HC
導入年	H11年度
仕様	スパッタ方式：誘導結合型プラズマ支援マグネトロンスパッタ カソード−基板間距離：１５０〜２００ｍｍ 基板加熱：最高５００℃
設置場所	ものづくり研究開発センター