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機器概要本装置は、金属、セラミックス、製薬等の原材料や製品等における粒子の大きさや、粒子の大きさの範囲および頻度(割合)を測定することができます。測定の方法としては、水や有機溶剤等の溶媒を用いて測定する湿式測定や、粉末を噴射して測定部に通過させることで測定する乾式測定が可能である。主な用途粉末を原料とした製品の粉末の品質や性能を評価するために、粒子の平均粒径や粒子径の範囲(分布)を確認したい時に有効である。 |
設備名 | レーザ粒度分析計 |
メーカー名 | スペクトリス株式会社マルバーン事業部 |
型式 | マスターサイザー3000、ゼータサイザーナノZS |
導入年 | H25年度 |
仕様 |
・微粒子測定部:0.01〜3500 μm (レーザ回折散乱式、湿式+乾式フルレンジ) ・ナノ粒子測定部:0.3 nm 〜10 μm (動的光散乱式) ・ゼータ電位測定(ナノ粒子測定部) |
設置場所 | ものづくり研究開発センター |