ものづくり研究開発センター　CNF製品実証・試作拠点

高分解能電界放出形走査電子顕微鏡

機器概要 　従来の汎用的な電子顕微鏡よりも高精度（ナノレベル）で観察および分析することができ、セルロースナノファーバーをはじめとする様々な原材料や製品の形状や表面の状態をナノレベルで評価することができます。 主な用途 　本装置は、表面状態の観察や組成に依存した反射電子観察の他、透過観察、低真空観察ができます。構成元素の分析システム（ＥＤＳ）や結晶構造の解析システム（ＥＢＳＤ）も備えており、製品開発や不具合の原因調査に利用できます。

設備名	高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
メーカー名	(株)日立ハイテクノロジーズ
型式	SU5000
導入年	H29年度
仕様	・電子銃　：　電界放出型電子銃（ショットキー電子銃） ・観察倍率：　18〜1,000,000 倍 ・観察機能：　二次電子観察、反射電子観察、透過像観察、低真空観察 ・分析機能：　エネルギー分散型Ｘ線分析システム（EDS） 　　　　　　　結晶方位解析システム（EBSD）
設置場所	ものづくり研究開発センター