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機器概要次世代の洗浄水といわれるオゾン水を製造する装置です。本装置は、100ppm以上のオゾン濃度を得られる性能を有し、フォトレジストなどの有機除去、表面改質などに使用できます。 主な用途有機溶剤や強酸などの薬液洗浄の置き換え、環境にも優しい洗浄方法を提案します。半導体をはじめとする電子部品製造工程、医療医薬分野への応用が可能です。 |
| 設備名 | 機能性洗浄水製造装置 |
| メーカー名 | 野村マイクロサイエンス株式会社 |
| 型式 | NOM-1-150-C |
| 導入年 | H21年度 |
| 仕様 | オゾン水濃度:100ppm以上 オゾン水温度:〜50℃ オゾン水量:1L/min |
| 設置場所 | ものづくり研究開発センター |