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機器概要真空中にアルゴン及び酸素ガスを導入し、直流及び高周波マグネトロンスパッタにより、精密に薄膜を作製します主な用途ガラス、プラスチックス、金属などの基材の上に、高品質の金属膜、セラミックス膜を高速成膜 |
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設備名 | 小型スパッタ装置 |
メーカー名 | アルバック(株) |
型式 | SH-250-T4 |
導入年 | H16年度 |
仕様 | ターゲットサイズ:3インチφ×3式 基板温度:最高400℃ 電源:RF及びDC各1基 逆スパッタリング、重畳放電及びバイアススパッタリングが可能 |
設置場所 | ものづくり研究開発センター |