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機器概要本装置では、超微細加工技術によって作製されたナノレベル(1ナノメートル=10億分の1メートル)の凹凸が形成された金型(モールド)をもとに、ワーク上に超微細パターンを転写形成することが可能です。主な用途ナノインプリント技術は、次世代半導体デバイス製造代替技術(リソグラフィー)、光学デバイス(LED、マイクロレンズ)、大容量ストレージメディア(高記録密度化)、ディスプレイ(有機ELディスプレイ)、太陽電池(全波長吸収加工)、バイオ・医療デバイス技術(μTAS、細胞チップ)への応用が検討されています。また、次世代自動車、携帯電話などのディスプレイ、燃料電池関連などへの応用も期待されます。 |
設備名 | ナノインプリンティング装置 |
メーカー名 | ズース・マイクロテック株式会社 |
型式 | SUSS MicroTec MA6 SCIL |
導入年 | H22年度 |
仕様 | ・ UV(紫外線硬化)インプリント方式 ・ マスクアライナー(アライメント精度:±1μm以下) ・ レプリカモールド(PDMS)方式採用による低コスト化 ・ 大面積(φ6inch Max.)のインプリントに対応 ・ 高い均一性 |
設置場所 | ものづくり研究開発センター |