イオンミリング装置

機器概要

試料に、アルゴンイオンを照射し、試料原子を弾き飛ばすことで、任意の試料観察面(断面または表 面)の加工・調整ができる装置です。また、-100℃まで冷却可能であり、低温環境下に試料を温度調節して加工する機能も有していま す。

主な用途

アルゴンイオンのスパッタリング現象を応用した加工のため、試料へのダメージを少なくでき、機 械研磨などの従来手法では困難な材料でも適用可能です。
本設備は、ひずみや熱影響を抑制できるため、セルロースナノファイバー(CNF)複合化プラスチッ ク材料のCNF分散状態評価をはじめとした高度な試料調整に活用でき、製品開発や品質管理に貢献 します。

基本仕様