富山県産業技術研究開発センター
機械電子研究所 化学試験及び分析設備

マイクロX線光電子分光分析装置（μ-XPS）  icon

マイクロX線光電子分光分析装置（μ-XPS） 外観

機器概要

試料表面にＸ線を照射し、放出される光電子のエネルギーを測定することにより、表面から数nm程 度の極表面に存在する元素組成が分析できます。イオン銃によるエッチングを併用することで深さ方向の元素の分布を調べることも可能です。

主な用途

各種材料、薄膜、電極等の表面元素分析、深さ方向分析

基本仕様

設備名 マイクロX線光電子分光分析装置（μ-XPS）
メーカー名 アルバック・ファイ株式会社
型式 PHI5000 Versa ProbeV
導入年 H30年度
仕様
  • X線源：Alモノクロ、Mg、Zr
  • 最小分析径：10μmφ
  • 帯電中和機構
  • イオンエッチング：Arイオン銃、Arガスクラスターイオン銃(GCIB)
設置場所 富山県産業技術研究開発センター
機械電子研究所（富山市）
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